Em setores como a fabricação de semicondutores e instrumentos de medição de precisão, a exatidão das plataformas de granito determina diretamente a qualidade operacional dos equipamentos. Para garantir que a exatidão da plataforma atenda aos padrões, esforços devem ser feitos em duas frentes: a detecção de indicadores-chave e a conformidade com as normas padrão.
Detecção de indicadores principais: Controle multidimensional da precisão
Detecção de planicidade: Determinação da "planicidade" do plano de referência.
A planicidade é o principal indicador de precisão das plataformas de granito e geralmente é medida por interferômetros a laser ou níveis eletrônicos. O interferômetro a laser mede com precisão as mínimas ondulações na superfície da plataforma, emitindo um feixe de laser e utilizando o princípio da interferência da luz, com uma precisão que atinge o nível submicrométrico. O nível eletrônico realiza múltiplas medições e cria um mapa de contorno tridimensional da superfície da plataforma para detectar a presença de saliências ou depressões locais. Por exemplo, as plataformas de granito utilizadas em máquinas de fotolitografia de semicondutores devem ter uma planicidade de ±0,5 μm/m, o que significa que a diferença de altura em um comprimento de 1 metro não deve exceder meio micrômetro. Somente com equipamentos de detecção de alta precisão é possível garantir esse padrão rigoroso.
2. Detecção de retilineidade: Garantir a "retidão" do movimento linear
Para plataformas que transportam peças móveis de precisão, a retilineidade é de vital importância. Os métodos comuns para detecção são o método do fio ou o colimador a laser. O método do fio envolve a suspensão de fios de aço de alta precisão e a comparação da distância entre a superfície da plataforma e os fios de aço para determinar a retilineidade. O colimador a laser utiliza as características de propagação linear do laser para detectar o erro linear da superfície de instalação do trilho guia da plataforma. Se a retilineidade não atender aos padrões, isso fará com que o equipamento se desloque durante o movimento, afetando a precisão do processamento ou da medição.
3. Detecção da rugosidade da superfície: Garantir a "finesa" do contato.
A rugosidade da superfície da plataforma afeta o encaixe dos componentes na instalação. Geralmente, utiliza-se um rugosímetro de contato ou um microscópio óptico para essa detecção. O instrumento de contato registra as variações de altura do perfil microscópico ao entrar em contato com a superfície da plataforma com uma ponta fina. Os microscópios ópticos permitem a observação direta da textura da superfície. Em aplicações de alta precisão, a rugosidade da superfície de plataformas de granito precisa ser controlada em Ra ≤ 0,05 μm, o que equivale a um efeito espelhado, garantindo que os componentes de precisão se encaixem firmemente durante a instalação e evitando vibrações ou deslocamentos causados por folgas.
Os padrões de precisão seguem as normas internacionais e o controle interno da empresa.
Atualmente, internacionalmente, as normas ISO 25178 e GB/T 24632 são comumente utilizadas como base para determinar a precisão de plataformas de granito, e existem classificações claras para indicadores como planicidade e retilineidade. Além disso, empresas de manufatura de ponta frequentemente estabelecem padrões de controle interno mais rigorosos. Por exemplo, o requisito de planicidade para a plataforma de granito da máquina de fotolitografia é 30% superior ao padrão internacional. Ao realizar testes, os dados medidos devem ser comparados com as normas correspondentes. Somente plataformas que atendam plenamente às normas podem garantir um desempenho estável em equipamentos de precisão.
A inspeção da precisão de plataformas de granito é um projeto sistemático. Somente testando rigorosamente indicadores essenciais como planicidade, retilineidade e rugosidade superficial, e seguindo as normas internacionais e da empresa, é possível garantir a alta precisão e confiabilidade da plataforma, estabelecendo uma base sólida para setores de fabricação de ponta, como semicondutores e instrumentos de precisão.
Data da publicação: 21 de maio de 2025